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      • 姓名: 彭欽軍
      • 性別: 男
      • 職稱(chēng): 研究員
      • 職務(wù): 實(shí)驗室主任
      • 學(xué)歷: 理學(xué)博士
      • 電話(huà): 010-82543473
      • 傳真: 
      • 電子郵件: pengqinjun@mail.ipc.ac.cn
      • 通訊地址: 北京市海淀區中關(guān)村東路29號
        簡(jiǎn)  歷:
      • 2000.09-2003.07,四川大學(xué)物理學(xué)院,光物理專(zhuān)業(yè),碩士,導師:郭永康

        2003.09-2006.07,中科院物理研究所,光物理重點(diǎn)實(shí)驗室,光物理專(zhuān)業(yè),博士,導師:許祖彥

        2006.07-2008.04,中科院物理研究所光物理實(shí)驗室L06組,副組長(cháng)/副研究員

        2008.04至今,中科院理化所,歷任研究員、博士生導師

        社會(huì )任職:
        研究方向:
      • 長(cháng)期從事固體激光物理和技術(shù)研究,在下列領(lǐng)域做出了系統性、原創(chuàng )性的成果。

        1)高能固體激光

        2)短波紅外固體激光

        3)實(shí)用化深紫外固體激光

         

        承擔科研項目情況:
      • 作為項目負責人/總設計師/首席科學(xué)家,承擔了中科院與國家多項重大科研任務(wù)

        代表論著(zhù):
      • 已發(fā)表文章120多篇,國際會(huì )議邀請報告6篇,獲發(fā)明專(zhuān)利30多項。其中,代表性文章:

        1.  8.2 kW high beam quality QCW face-pumped Nd:YAG slab amplifier, 發(fā)表于Appl. Opt, 2015/54, 5011-5015, 通訊作者

        2.  Sequence combining of pulsed lasers using refraction-beam-displacement, 發(fā)表于Appl. Opt, 2013/52/208-211, 通訊作者

        3.  Advanced application and progress of high power DUV laser, 發(fā)表于Pacific Rim Laser Damage Symposium - Optical Materials for High Power Lasers(Invited), 2013/19-22, 第一作者

        4.  High power UV 278 nm laser from fourth harmonic generation of a diode-pumped Q-switched Nd:YAG laser in CsB3O5, 發(fā)表于Opt.Lett,2012/37/2403-2405, 第一作者

        5.  高平均功率固體激光功率與光束質(zhì)量關(guān)系研究進(jìn)展,2011,23, 1707-17122011. 7

        6.  Tunable and narrow linewidth yellow beam generation by sum–frequency mixing of diode-pumped Nd:YAG ring lasers, 發(fā)表于4th International Conference on Advanced Optoelectronics and Lasers(Invited), 2008, Alushta, Crimea, Ukraine, 第一作者

        7.  Efficient improvement of laser beam quality by coherent combining in an improved Michelson cavity, 發(fā)表于Opt.Lett, 2005/30/1485, 第一作者

        8.  Highly efficient tunable tapered-polymer-fiber lasers, 發(fā)表于Appl.Phys.Lett., 2005/87/1, 第一作者

        9.  Real-time gray-scale photolithography for fabrication of continuous microstructure,發(fā)表于Opt.Lett., 2002/271720-1722, 第一作者

        獲獎及榮譽(yù):
      • 獲得過(guò)國家獎一項,省部級獎、人才類(lèi)獎項、集體類(lèi)獎項多項。